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[증착 공정] 물리 기상 증착 공정 (PVD)

Physical Vapor Deposition (PVD): 물리기상증착법. 주로 금속 증착(Silicide), 장점No Chemical (오염이 적음), 고품질, 안전,단점 MFP가 길고 직진성이 강해 낮은 Step Coverage. 비쌈, 고진공 종류Thermal Evaporation: Boat로 불리는 판 위에 올려놓고 열을 가해 증착물질을 기화시켜 기판에 붙이는 방법. 진공 관 안에서 진행. 간단하고 여러 금속 가능E-beam Evaporation: Thermal과 유사. 보트를 가열하는 것 대신 전자빔(고에너지)을 이용해 증착물질을 가열해 기화시키는 방법. 간단하고 여러 금속 가능(녹는점이 높은 것)Evaporation의 경우 느리고 기판과의 접착성이 낮고 Uniformity도 낮음Sputteri..

반도체/증착 공정 (Deposition) 2024.08.29
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세정공정, cmp, sio2, Annealing, STI, 산화공정, bspdn, ionimplantation, ald, react, cleaning, Sims, 산화막, 평탄화, 이온주입, 이온주입공정, 금속배선공정, mbcfet, Deposition, 증착공정,

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