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[금속 배선 공정] 금속의 조건, Al과 Cu, Planarization, Interconnection, 신뢰성

1.   금속의 조건 Si(기판)과 부착성이 좋아야 함. 전기 저항이 낮아야 함(배선의 역할), 열과 화학적으로 안정적이어야 함. 패턴 형성이 쉽게 이루어져야 함. 오래 사용할 수 있도록 신뢰성이 높아야 함. 고가의 재료 사용하기 어려움 2.   Al과 Cu두 공정 모두 Barrier 필요.  -Barrier: Metal과 Si간 확산 방지(접착성 증가), Void가 발생해도 전기적 역할을 할 수 있도록 전자의 경로 역할. 주로 Ti/TiN 사용. But 저항 증가Al(알루미늄): 일반적으로 사용. RIE 방법을 이용. 저렴, 전기전도도 우수, 증착이 쉽고 빠름, 접착력 우수(Ohmic), Photo와 Etching 공정이 쉬움, 자연 산화막 제거. Oxide 층으로 확산하지 않음-단점1) Junctio..

반도체/금속 배선 공정 (Metallization) 2024.09.02
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증착공정, 금속배선공정, mbcfet, ald, cmp, 평탄화, 이온주입, 이온주입공정, ionimplantation, react, 산화막, STI, Sims, Deposition, cleaning, 세정공정, Annealing, sio2, 산화공정, bspdn,

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