반도체 버린 프로그래머 새내기 블로그

  • 프로그래밍-Front
  • 프로그래밍-Back
  • 프로그래밍-서버
  • 반도체

4 point probe 1

[이온 주입 공정] 이온 주입 공정을 통해 형성된 확산층 평가

4 Point Probe(Blanket Wafer): 간격이 일정한 Probe tip 4개를 Wafer에 Contact해 일정 전류를 Forcing 해 Voltage Drop을 측정 (Rs)소자의 비저항 값은 고정이기 때문에 t값(두께)를 알 수 있음Thermo WaveImplant된 영역은 Damage 때문에 반사율이 차이가 생기기 때문에 이를 측정함. SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometry) = Surface Negative Ionization 양이온이 부딪치기 때문에 음 성질이 튀어나옴, 매우 정밀, Ultra High Vacuum 필요.Depth Dopant Profile, Dopant Concentration 측정, 성분 분석, ppb단위까지 측정가능. Primary..

반도체/이온 주입 (Ion Implantation) 2024.08.26
이전
1
다음
더보기
프로필사진

반도체 버린 프로그래머 새내기 블로그

공부한 내용이 비주기적으로 올라옵니다!

  • 분류 전체보기 (46)
    • 프로그래밍 소프트웨어 정보 (2)
    • 프로그래밍-서버 (0)
      • AWS (0)
    • 프로그래밍-Back (1)
      • Java (1)
      • SQL (0)
    • 프로그래밍-Front (3)
      • React (3)
      • JQuery (0)
    • 앱 개발 (0)
    • 반도체 (40)
      • Wafer 및 소자(Device) 기초 (13)
      • 산화막 증착 (Oxidation) (3)
      • CMP (2)
      • 이온 주입 (Ion Implantation) (6)
      • 노광 공정 (포토 공정, Photolithogra.. (4)
      • 식각 공정 (에칭 공정, Etching) (3)
      • 증착 공정 (Deposition) (3)
      • 금속 배선 공정 (Metallization) (2)
      • 세정 공정 (Cleaning) (4)

Tag

STI, Deposition, cmp, 이온주입, 금속배선공정, Sims, 산화공정, cleaning, ald, 산화막, 증착공정, ionimplantation, 세정공정, 평탄화, Annealing, 이온주입공정, sio2, mbcfet, bspdn, react,

최근글과 인기글

  • 최근글
  • 인기글

최근댓글

공지사항

페이스북 트위터 플러그인

  • Facebook
  • Twitter

Archives

Calendar

«   2025/08   »
일 월 화 수 목 금 토
1 2
3 4 5 6 7 8 9
10 11 12 13 14 15 16
17 18 19 20 21 22 23
24 25 26 27 28 29 30
31

방문자수Total

  • Today :
  • Yesterday :

Copyright © Kakao Corp. All rights reserved.

티스토리툴바